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Transport électronique à travers deux dopants, en régime statique et dynamique, dans des transistors silicium

Lundi 22 octobre 2012 14:00 - Duree : 2 heures
Lieu : Salle "Nevill Mott" D420 - Institut Néel - Building D, CNRS Polygone scientifique, 25 rue des martyrs, 38000 Grenoble

Orateur : Soutenance de thèse de Benoît ROCHE (CEA/INAC/SPSMS)

Dans cette thèse, nous nous sommes intéressés à l’étude à basse température de dispositifs en silicium de taille nanométrique. Dans ces dispositifs, il est possible de faire passer le courant électrique à travers un nombre réduit de dopants. Nous avons étudié plus spécifiquement le cas de deux dopants en séries, dont les potentiels électrostatiques sont contrôlés indépendamment par deux tensions de grille. En régime de transport électronique statique, il est possible d’effectuer une spectroscopie des niveaux électronique des dopants. On mesure la séparation des deux premiers états de dopants phosphore, qui est proche de 10 meV, alors qu’elle est de 11,7 meV pour des dopants dilués dans un cristal massif. Cette différence s’explique par la proximité des dopants avec une interface avec de l’oxyde de silicium. En régime dynamique, lorsque les niveaux des dopants sont modulés par un signal périodique, on observe qu’un courant est généré par le dispositif. L’évolution du courant en fonction des tensions de grille est simulée en prenant en comp te les couplages tunnels du système. À haute fréquence, lorsque l’on observe la quantification d’énergie électromagnétique échangée avec le système, on reproduit le courant mesuré en fonction de l’amplitude du signal appliqué sur les grilles. Cette mesure permet de mettre en évidence la cohérence d’un électron partagé sur deux dopants.

Contact : benoit.roche@grenoble-inp.org



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