LES TECHNOLOGIES DE GRAVURE PLASMA : COMMENT CONTROLER LA GRAVURE AVEC UNE PRECISION ATOMIQUE
Vendredi 15 avril 2016 12:30
- Duree : 45 minutes
Lieu : Amphithéâtre MINATEC - 3 parvis Louis Néel - 38000 Grenoble
Orateur : Olivier JOUBERT (Directeur de recherche au CNRS
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique)
La gravure plasma a accompagné l’évolution de la microélectronique depuis plus de 40 ans. Depuis les premiers réacteurs de gravure RIE ( "Reactif Ion Etching"), développés dans les années 1980, les équipements et les performances des procédés ont profondément évolué. Tous les développements actuels convergent vers un seul et même objectif : structurer la matière avec une précision atomique de manière fiable et reproductible sur de grandes surfaces (ex : substrats de silicium de 300 mm de diamètre). L’exposé sera focalisé sur les évolutions des technologies plasma permettant d’atteindre précision et fiabilité.
Inscription obligatoire avant le 13 avril 2016 : http://www.minatec.org/midis
Contact : midis-minatec@inviteo.fr
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