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L’auto-assemblage des copolymères à bloc : Une autre façon de penser la lithographie

Vendredi 14 mars 2014 12:30 - Duree : 45 minutes
Lieu : Amphithéâtre MINATEC - 3 parvis Louis Néel - 38000 Grenoble

Orateur : Raluca TIRON (Ingénieur-chercheur au CEA-Leti)

La lithographie est indiscutablement la méthode principale de fabrication de masse des circuits de la microélectronique. Traditionnellement optique, la lithographie actuelle aussi appelée photolithographie, est fondamentalement limitée par le phénomène de diffraction. De plus, son utilisation en milieu industriel se révèle de plus en plus coûteuse. Il devient donc primordial que des approches technologiques innovantes et économiquement attractives soient investiguées pour satisfaire les besoins futurs de l’industrie du semi-conducteur et des nanotechnologies. L’auto-assemblage dirigé des copolymères à bloc représente une solution alternative aux lithographies actuelles.

Attention !!! L’accés à l’amphi se fera désormais, uniquement par le bâtiment 50B (Maison MINATEC)

Inscription obligatoire avant le 12 mars 2014 : http://www.minatec.org/midis

Contact : midis-minatec@inviteo.fr


Entité organisatrice : (MINATEC)
Nature évènement : (Séminaire)
Evènement répétitif : (Midi MINATEC)
Site de l'évènement : Site Minatec

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